Beschreibung

Die EMICON MC Systeme eignen sich für fast jede Anwendung in der Plasmatechnologie zur Plasmaanalyse, zum Plasmamonitoring, zur Prozessoptimierung, zur Qualitätssicherung und zur Prozessregelung. Die schlüsselfertigen EMICON MC Systeme sind mit allen notwendigen Eigenschaften ausgerüstet, um typische Prozessplasmen zu beobachten und in bestehende Anlagensteuerungen integriert werden zu können.

Plasmamonitor- und Prozesskontrollsystem PLASUS | EMICON 4MC

  • 4-Breitband-Spektrometer Module (200-1100 nm) im 19″ Rack-Gehäuse
  • Steuereinheit zur Prozesssteuerung: 8 Analog Control Outputs: ±10 Volts, 4 Digital

Applikation

  • Prozessbeobachtung und Prozessoptimierung
  • Plasmaprozessanalyse
  • Überwachung der Prozessstabilität
  • Endpunktbestimmung in Plasma-Ätzprozessen
  • Gasflussregelung in reaktiven Plasma-Sputterprozessen
  • Erkennung und Überwachung von Plasmaverunreingungen
  • Qualitätskontrolle von Lampen
  • Leckdetektor

Merkmale

  • Datenaufnahme mit Breitband-Spektrometer
  • Echtzeitbeobachtung der Lichtemission
  • Prozessanalyse und Prozessbeobachtung
  • Wiedergabe von gespeicherten Messdaten zur Prozessanalyse
  • Prozesskontrolle mit Sollwertfunktion und PID Regelfunktion
  • Mehrkanalsysteme für ortsaufgelöste Messungen
  • Digitale und analoge Ein- und Ausgänge zur Systemintegration
  • PROFIBUS und LAN Schnittstelle zur Anlagenintegration
  • Komfortable Windows Software